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加工・処理 一覧
検索結果236件
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[167]マニュアルプローバ cascade 8inch,1/fノイズ計測システム付
・小片から8インチウェハまで対応可。・MOSデバイスの電気的特性評価。・ステ…
- 型式
- Cascade Microtech SQ-S11861B
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[168]薄膜硬度計
・小片～30㎜角程度まで可。
- 型式
- NEC三栄 MH4000
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[169]n&k測定装置
・小片～30㎜角程度まで可。
- 型式
- n&k Technology
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[197]200mmウェーハ対応原子間力顕微鏡
カットピース～Φ200㎜ウェハ対応
- 型式
- ー
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[200]真空凍結乾燥システム
・冷凍した物質から真空状態で水分を昇華させることにより、物性変化をもたらすことな…
- 型式
- TF20-80TNN
- 所在
- 災害科学国際研究所 / 青葉山キャンパス
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[237]極微細スピンメモリ素子用電子描画装置〔リンク〕
- 型式
- 日本電子 JBX-6300SK
- 所在
- 工学研究科（機械・知能系） / 青葉山キャンパス
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[242]レーザー直線描画装置 一式〔リンク〕
- 型式
- Heidelberg Instruments Mikrotechnik DWL2000SD
- 所在
- 工学研究科（機械・知能系） / 青葉山キャンパス
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[244]住友精密工業(株)製 Deep RIE装置 一式〔リンク〕
- 型式
- 住友精密工業 MUC21 SR
- 所在
- 工学研究科（機械・知能系） / 青葉山キャンパス
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[245]シリコン酸化皮膜形成用O3･TEOS/CVD装置〔リンク〕
- 型式
- ユーテック
- 所在
- 工学研究科（機械・知能系） / 青葉山キャンパス
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[247]薄膜形成用プラズマCVD装置〔リンク〕
- 型式
- サムコ PD-220NL
- 所在
- 工学研究科（機械・知能系） / 青葉山キャンパス
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[248]住友 PECVD〔リンク〕
SiN、SiO2、最高温度：350℃、低応力SiN成膜
- 型式
- 住友精密 MPX-CVD
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[249]マスク露光システム装置〔リンク〕
- 型式
- SUSS MicroTec MA8 Gen3 Thu1
- 所在
- 工学研究科（機械・知能系） / 青葉山キャンパス
