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加工・処理 一覧
検索結果88件
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[309]高清浄熱処理炉（3FCR）
O2,N2,Ar,H2,H2+O2雰囲気中での熱処理が可能。300～10…
- 型式
- WAF3000
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
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[336]MSEP-PVクラスタ
・小片～33㎜φウェハまで対応。・PE-CVD-SiO膜、SiN膜の成膜。
- 型式
- 大亜真空
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[385]AFM
- 型式
- アサイラム テクノロジー
- 所在
- 工学研究科（電子情報システム・応物系） / 青葉山キャンパス
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[402]インラインスパッタリング装置 C3010
- 型式
- ー
- 所在
- 工学研究科（電子情報システム・応物系） / 青葉山キャンパス
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[544]赤外線加熱合成炉
最高2000℃程度までの融点を持つ試料の単結晶育成が可能。(例：ルビー、銅酸化物…
- 型式
- クリスタルシステム FZ-4-10K-K-M
- 所在
- 金属材料研究所 / 片平キャンパス
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[545]赤外線加熱単結晶育成装置
最高2000℃程度までの融点を持つ試料の単結晶育成が可能。(例：ルビー、銅酸化物…
- 型式
- キャノンマシナリー SC-K15HD
- 所在
- 金属材料研究所 / 片平キャンパス
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[546]赤外線加熱単結晶育成装置(整備品)
最高2000℃程度までの融点を持つ試料の単結晶育成が可能。(例：ルビー、銅酸化物…
- 型式
- キャノンマシナリー SCII-EDH-KS
- 所在
- 金属材料研究所 / 片平キャンパス
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[554]3Dプリンターシステム
最大ビルドサイズ（mm）:203W×152L×152H素材:ABS（ア…
- 型式
- Stratasys uPrint SE
- 所在
- 材料科学高等研究所 / 片平キャンパス
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[563]プラズマアッシャー（PR500）
高周波出力:500W,反応ガス:O2
- 型式
- ヤマト科学 PR500
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
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[564]UVオゾンクリーナー（UV-1）
用途：試料表面のクリーニングやアッシング
- 型式
- サムコ UV-1
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
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[565]プラズマアッシャー（V-1000TS）
用途：試料表面のクリーニングやアッシング性能：プラズマモードDP/RIE、ガス…
- 型式
- ヤマト科学 V1000-TS
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
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[566]マスクアライナー（MJB-4）
基板サイズ5mm角から最大3インチ角、マスクサイズ：2インチ角から4インチ角、…
- 型式
- SUSS MJB-4
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
