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加工・処理 一覧
検索結果90件
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[1007]スパッタ装置
- 型式
- アルバック九州(株) QAM-4-S
- 所在
- 材料科学高等研究所 / 片平キャンパス
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[1019]段差計
- 型式
- ﾌﾞﾙｶｰﾅﾉ社 DektakXT
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[1020]分光エリプソメトリ
- 型式
- ｾﾐﾗﾎﾞ社 SE2000
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[109]電子線描画装置（JBX-9300SA）
加速電圧100kV,5mm~6inchウエハ対応
- 型式
- 日本電子 JBX-9300SA
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
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[112]高電圧パルス選択性粉砕装置
パルス電圧：90-200kVパルス周波数：1-5Hz電極ギャップ：10-40…
- 型式
- SELFRAG AG SELFRAG Lab S2.0
- 所在
- 多元物質科学研究所 / 片平キャンパス
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[113]ウェットベンチ(無機用・高清浄)
シリコングレード専用
- 型式
- 日立プラント HNCD-4-SL #1
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[114]ウェットベンチ(無機用・汎用)
・シリコン（Si）のみ使用可。・無機薬品の使用可（硫酸、硝酸、フッ酸、塩酸、過…
- 型式
- 日立プラント HNCD-4-SL #2
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[115]ウェットベンチ(無機用・メタル専用)
・材料問わず使用可（重金属は要相談）・無機薬品の使用可（硫酸、硝酸、フッ酸、塩…
- 型式
- 日立プラント HNCD-4-SL #3
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[116]ウェットベンチ(有機用・リソグラフィ)
・有機薬品を用いた基板洗浄・超純水の使用可。・小片から8インチウェハまで対応…
- 型式
- 日立プラント HNCD
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[117]特殊型Siウェハ洗浄乾燥装置
Φ200㎜専用
- 型式
- エス・イー・エス 200SP
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[118]KrFステッパ
Φ200㎜専用
- 型式
- キヤノン FPA3000-EX3
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[119]コータデベロッパ
Φ200㎜専用
- 型式
- 東京エレクトロン Mark8
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
