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加工・処理 一覧
検索結果226件
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[1007]スパッタ装置
- 型式
- アルバック九州(株) QAM-4-S
- 所在
- 材料科学高等研究所 / 片平キャンパス
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[1019]段差計
- 型式
- ブルカーナノ社 DektakXT
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[1020]分光エリプソメトリ
- 型式
- セミラボ社 SE2000
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[109]電子線描画装置(JBX-9300SA)
加速電圧100kV,5mm~6inchウエハ対応
- 型式
- 日本電子 JBX-9300SA
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
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[1105]マグネトロンスパッタ装置・カーボンコーター
- 型式
- 真空デバイス製 MSP-1S、VC-100
- 所在
- 多元物質科学研究所 / 片平キャンパス
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[1108]BEAMER Full Package
近接補正用ソフト(BEAMER)
- 型式
- ー
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[1109]KrFステッパ
小片~8インチ、最小線幅0.15μm以下、重ね合せ精度20nm、透明基板対応…
- 型式
- キヤノン FPA-3030EX6
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[1110]マスクレスアライナ#2
波長:405nm375nm、最小描画線幅:1µm、マスク作製(Cr、エマルジョ…
- 型式
- Heidelberg Instruments MLA150
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[1111]NLDエッチング装置
磁気中性子線による低真空プラズマエッチング:SiCや石英などの難エッチング材料向…
- 型式
- アルバック NLD-5700
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[112]高電圧パルス選択性粉砕装置
パルス電圧:90-200kVパルス周波数:1-5Hz電極ギャップ:10-40…
- 型式
- SELFRAG AG SELFRAG Lab S2.0
- 所在
- 多元物質科学研究所 / 片平キャンパス
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[1123]マスクアライナー(MA-20)
- 型式
- ミカサ MA-20
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
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[113]ウェットベンチ(無機用・高清浄)
シリコングレード専用
- 型式
- 日立プラント HNCD-4-SL #1
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス