- ID
- 109
- 設備・機器分類
- 加工・処理 ｜ 微細加工・デバイス作製・評価
- 利用区分
- 学内：〇, 学外：〇
- メーカー
- 日本電子
- 型式
- JBX-9300SA
- 仕様・特徴
- 加速電圧100kV,5mm~6inchウエハ対応
- 用途・使用目的
- ー
- キャンパス
- 片平キャンパス
- 部局
- 電気通信研究所
- 管理部署
- ー
- 設備担当者
- 利用相談はこちらより必要事項をご記入の上、お問い合わせください。
- 予約サイトのURL
- https://share.cfc.tohoku.ac.jp/share/equipment/detail/1/61?utm_source=portal&utm_medium=link
- 学外利用料金
※更新の都合で実際の料金とは異なる場合がございます。 - 本人利用（R8.7.1から）： 24,007円 / 時間
委託利用（R8.7.1から）： 28,119円 / 時間
技術指導料（R8.7.1から）： 4,111円 / 時間
クリーンルーム入室料（R8.7.1から）： 980円 / 時間
H-SiOx(HSQ) 2%（0.1cc）（R8.7.1から）： 191円 / 0.1cc
現像液 ZED-N60（50cc）（R8.7.1から）： 433円 / 50㏄
レジスト ZEP520A（0.1cc）（R8.7.1から）： 343円 / 0.1cc
レジスト ZEP520A-7（0.1cc）（R8.7.1から）： 431円 / 0.1cc
レジスト ZEP530A-6（0.1cc）（R8.7.1から）： 646円 / 0.1cc
レジスト TGMR-EN103PE2.5cP（0.1cc）（R8.7.1から）： 288円 / 0.1cc
H-SiOx(HSQ) 5%（0.1cc）（R8.7.1から）： 479円 / 0.1cc
レジスト PMGI（0.1cc）（R8.7.1から）： 31円 / 0.1cc
密着性向上剤 OAP（0.1cc）（R8.7.1から）： 1円 / 0.1㏄
チャージアップ防止剤 エスペイサー 300Z（0.1g）（R8.7.1から）： 328円 / 0.1g
現像液 ZED-N50（50cc）（R8.7.1から）： 301円 / 50㏄
現像液・リンス ZMD-B（50cc）（R8.7.1から）： 273円 / 50㏄
現像液 NMD-3（50cc）（R8.7.1から）： 138円 / 50㏄
現像液 NMD-W（50cc）（R8.7.1から）： 138円 / 50㏄
レジスト剥離液 1165（50cc）（R8.7.1から）： 538円 / 50㏄
防塵衣セット(衣・帽・靴)クリーニング： 1,293円 / 式 - 学内利用料金
- 上記予約サイトのURLより設備統合管理システムにログインの上、ご確認ください。
- 【閲覧用】設備予約カレンダー
- カレンダーは公開されていません。
- 備考
- <施設等使用料>
国立大学法人東北大学電気通信研究所共同研究施設装置利用内規を適用
＜消耗品等費＞
国立大学法人東北大学電気通信研究所共同研究施設装置等利用内規を適用
