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加工・処理 一覧
検索結果226件
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[114]ウェットベンチ(無機用・汎用)
・シリコン（Si）のみ使用可。・無機薬品の使用可（硫酸、硝酸、フッ酸、塩酸、過…
- 型式
- 日立プラント HNCD-4-SL #2
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[1147]プラズマアーク溶解炉
- 型式
- 日本特殊機械 AF-102-207AP
- 所在
- 工学研究科（マテリアル・開発系） / 青葉山新キャンパス
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[115]ウェットベンチ(無機用・メタル専用)
・材料問わず使用可（重金属は要相談）・無機薬品の使用可（硫酸、硝酸、フッ酸、塩…
- 型式
- 日立プラント HNCD-4-SL #3
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[116]ウェットベンチ(有機用・リソグラフィ)
・有機薬品を用いた基板洗浄・超純水の使用可。・小片から8インチウェハまで対応…
- 型式
- 日立プラント HNCD
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[118]KrFステッパ
Φ200㎜専用
- 型式
- キヤノン FPA3000-EX3
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[119]コータデベロッパ
Φ200㎜専用
- 型式
- 東京エレクトロン Mark8
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[1191]イオンスパッタ装置（SU6600・多元）
- 型式
- ①日立製 ②サンユー電子製 ①E-1030 ②SC-701
- 所在
- 多元物質科学研究所 / 片平キャンパス
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[120]アライナー
2.5インチレチクル
- 型式
- ユニオン光学 EMA-400
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[1200]アクテス スピンコータ#2
- 型式
- アクテス ASC-4000W
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[1201]ホットプレート
- 型式
- Shamal HHP-230SQ
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[1202]両面アライナ #2
- 型式
- SUSS MA6/BA6
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[1203]スピン乾燥機
- 型式
- 東邦化成 ZAA-5
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
