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加工・処理 一覧
検索結果236件
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[250]熱CVD〔リンク〕
Epipoly-Si(non-doped,doped)、Poly-Si(non…
- 型式
- 国際電気
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[252]DeepRIE装置#1〔リンク〕
Siの深堀エッチング、メカニカルチャック
- 型式
- 住友精密 MUC-21
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[255]デジタル電動サーボプレス
サーボ制御によりストロークの精密な制御が可能。
- 型式
- アマダ SDE2025SF
- 所在
- 工学研究科（マテリアル・開発系） / 青葉山キャンパス
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[256]イオンビームミリング装置 エンドポイント分析器仕様〔リンク〕
- 型式
- 伯東 IBE-KDC75-TU-T-S
- 所在
- 工学研究科（マテリアル・開発系） / 青葉山キャンパス
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[257]TEOS PECVD システム 一式〔リンク〕
- 型式
- サムコ PD-100ST
- 所在
- 工学研究科（機械・知能系） / 青葉山キャンパス
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[267]イオンビームミリング装置〔リンク〕
- 型式
- 伯東 IBE-KDC75-THKU-ST
- 所在
- 工学研究科（機械・知能系） / 青葉山キャンパス
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[270]リアクティブイオンエッチング装置 一式〔リンク〕
- 型式
- サムコ RIE-10NR 一式
- 所在
- 工学研究科（機械・知能系） / 青葉山キャンパス
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[278]芝浦 スパッタ装置〔リンク〕
基板ステージφ200mm、3インチターゲット×3、基板加熱形（最高300℃）
- 型式
- 芝浦メカトロニクス CFS-4ESII
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[284]イオン注入装置〔リンク〕
- 型式
- アルバック IMX-3500
- 所在
- 医工学研究科 / 青葉山キャンパス
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[287]ドライエッチング装置〔リンク〕
- 型式
- アルバック NE-550
- 所在
- 医工学研究科 / 青葉山キャンパス
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[309]高清浄熱処理炉（3FCR）
O2,N2,Ar,H2,H2+O2雰囲気中での熱処理が可能。300～10…
- 型式
- WAF3000
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
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[336]MSEP-PVクラスタ
・小片～33㎜φウェハまで対応。・PE-CVD-SiO膜、SiN膜の成膜。
- 型式
- 大亜真空
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
