- /
- 設備・機器分類
- /
- 加工・処理
加工・処理 一覧
検索結果229件
-
[360]両面マスクアライナ〔リンク〕
コンタクト露光、片面・両面アライメント、接合時のアライメント
- 型式
- SUSS Micro Tec SUSS MA6/BA6 SPEC TOU-2
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
-
[361]多元材料原子層堆積（ALD）装置〔リンク〕
アルミナ等のALDが可能。6インチウェハまでの導⼊が可能。アルミナ以外は、要原料…
- 型式
- テクノファイン ALK-600
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
-
[362]ME-RIE装置〔リンク〕
磁気エンハンスト型RIE装置
- 型式
- 立山マシン TEP-01C1
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
-
[363]Vapor HFエッチング装置〔リンク〕
気相フッ酸による主にSiO2犠牲層エッチング
- 型式
- Primaxx uEtch Module TO-α
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
-
[364]芝浦スパッタ装置（冷却形）〔リンク〕
基板ステージφ200mm、3インチターゲット×3、基板冷却型
- 型式
- 芝浦メカトロニクス CFS-4ES-C.T.
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
-
[385]AFM
- 型式
- アサイラム テクノロジー
- 所在
- 工学研究科（電子情報システム・応物系） / 青葉山キャンパス
-
[389]SSP3000 スパッタ装置〔リンク〕
- 型式
- 菅製作所 AV301-B2
- 所在
- 工学研究科（機械・知能系） / 青葉山キャンパス
-
[402]インラインスパッタリング装置 C3010
- 型式
- ー
- 所在
- 工学研究科（電子情報システム・応物系） / 青葉山キャンパス
-
[420]エッチングチャンバー〔リンク〕
酸洗浄、ウェットエッチング（Si,SiO2など）
- 型式
- アズワン PSH1200
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
-
[421]リン酸槽〔リンク〕
SiNウェットエッチング
- 型式
- ー
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
-
[422]イナートオーブン（シンター炉）〔リンク〕
N2雰囲気中での熱処理、Alシンタリングなど
- 型式
- ヤマト科学 DN63H
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
-
[423]真空オーブン〔リンク〕
真空中での熱処理
- 型式
- ヤマト科学 DP-31
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
