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加工・処理 一覧
検索結果226件
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[426]4″”スピン乾燥機
カセット式で1度に25枚まで処理可能
- 型式
- SEMITOOL PSC101
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[427]6″”スピン乾燥機
カセット式で1度に25枚まで処理可能
- 型式
- SEMITOOL PSC101
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[429]ミカサ スピンコーター
レジスト等のスピンコーティング
- 型式
- ミカサ 1H-DXII
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[430]クリーンオーブン
ウェハのベーク
- 型式
- ヤマト科学 DE62
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[431]ポリイミドキュア炉
N2雰囲気中でのポリイミドのキュア
- 型式
- ヤマト科学 DN43H
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[434]現像ドラフト
レジスト現像用のドラフトチャンバー
- 型式
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- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[435]UVキュア装置
レジストのキュア、カセットtoカセット
- 型式
- ウシオ電機 UMA-802
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[436]アクテス スピンコータ#1
レジスト等のスピンコーティング
- 型式
- アクテス ASC-4000
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[437]スプレー現像装置
現像液とリンス（水）をノズルから噴霧
- 型式
- アクテス ADE-3000S
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[438]レーザ描画装置
波長：405nm、最小描画線幅：0.7µm、マスク作製（Cr、エマルジョン）、直…
- 型式
- Heidelberg Instruments DWL2000CE
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[439]球面露光装置
球面体（直径1.0、3.3mm）へのマスクレス露光、最小パターン：1.5µmハー…
- 型式
- 東栄科学産業 -
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[440]酸化炉（半導体用）
酸化膜形成、半導体ウェハ用
- 型式
- 東京エレクトロン XL-7
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
