- /
- 設備・機器分類
- /
- 加工・処理
加工・処理 一覧
検索結果232件
-
[436]スピンコータ〔リンク〕
レジスト等のスピンコーティング
- 型式
- アクテス ASC-4000
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
-
[437]スプレー現像装置〔リンク〕
現像液とリンス（水）をノズルから噴霧
- 型式
- アクテス ADE-3000S
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
-
[438]レーザ描画装置〔リンク〕
波長：405nm、最小描画線幅：0.7µm、マスク作製（Cr、エマルジョン）、直…
- 型式
- ハイデルベルグ・インストルメンツ DWL2000CE
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
-
[439]球面露光装置〔リンク〕
球面体（直径1.0、3.3mm）へのマスクレス露光、最小パターン：1.5µmハー…
- 型式
- 東北電子産業
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
-
[440]酸化炉（半導体用）〔リンク〕
酸化膜形成、半導体ウェハ用
- 型式
- 東京エレクトロン XL-7
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
-
[441]酸化炉（MEMS用）〔リンク〕
酸化膜形成、MEMSウェハ用
- 型式
- 東京エレクトロン XL-7
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
-
[442]P拡散炉〔リンク〕
P拡散（プリデポ用）
- 型式
- 東京エレクトロン XL-7
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
-
[443]P押し込み炉〔リンク〕
P拡散（ドライブイン用）
- 型式
- 東京エレクトロン XL-7
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
-
[444]B拡散炉〔リンク〕
B拡散（プリデポ用）
- 型式
- 東京エレクトロン XL-7
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
-
[445]B押し込み炉〔リンク〕
B拡散（ドライブイン用）
- 型式
- 東京エレクトロン XL-7
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
-
[446]アニール炉〔リンク〕
イオン注入後のアニール
- 型式
- 東京エレクトロン XL-7
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
-
[447]中電流イオン注入装置〔リンク〕
最大加速電圧：180keV、最大電流：0.6mA、注入可能元素：P、B、カセット…
- 型式
- 日新イオン機器 NH-20SR
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
