微細加工・デバイス作製・評価 一覧
検索結果90件
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[257]TEOS PECVD システム 一式〔リンク〕
- 型式
- サムコ PD-100ST
- 所在
- 工学研究科（機械・知能系） / 青葉山キャンパス
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[267]イオンビームミリング装置〔リンク〕
- 型式
- 伯東 IBE-KDC75-THKU-ST
- 所在
- 工学研究科（機械・知能系） / 青葉山キャンパス
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[270]リアクティブイオンエッチング装置 一式〔リンク〕
- 型式
- サムコ RIE-10NR 一式
- 所在
- 工学研究科（機械・知能系） / 青葉山キャンパス
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[284]イオン注入装置〔リンク〕
- 型式
- アルバック IMX-3500
- 所在
- 医工学研究科 / 青葉山キャンパス
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[287]ドライエッチング装置〔リンク〕
- 型式
- アルバック NE-550
- 所在
- 医工学研究科 / 青葉山キャンパス
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[309]高清浄熱処理炉（3FCR）
O2,N2,Ar,H2,H2+O2雰囲気中での熱処理が可能。300～10…
- 型式
- WAF3000
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
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[362]ME-RIE装置〔リンク〕
磁気エンハンスト型RIE装置
- 型式
- 立山マシン TEP-01C1
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[385]AFM
- 型式
- アサイラム テクノロジー
- 所在
- 工学研究科（電子情報システム・応物系） / 青葉山キャンパス
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[389]SSP3000 スパッタ装置〔リンク〕
- 型式
- 菅製作所 AV301-B2
- 所在
- 工学研究科（機械・知能系） / 青葉山キャンパス
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[402]インラインスパッタリング装置 C3010
- 型式
- ー
- 所在
- 工学研究科（電子情報システム・応物系） / 青葉山キャンパス
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[467]Al-RIE〔リンク〕
AlやSiのドライエッチング、カセットtoカセット、ガス：Cl2、BCl3
- 型式
- 芝浦エレテック HIRRIE-100
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[483]レーザマーカ〔リンク〕
ウェハのマーキング
- 型式
- GSIルモニクス WM-II
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
