微細加工・デバイス作製・評価 一覧
検索結果90件
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[160]ソーラシミュレータ
主な使用用途太陽電池セル、モジュール、サブモジュールのＩ－Ｖ特性評価用光源材…
- 型式
- ワコム電創 WXS-90S-L2
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[163]抵抗率測定器
・小片から8インチウェハまで対応可。・8インチウェアはマッピング可。
- 型式
- 国際電気アルファ（日立国際電気） VR-120S
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[166]300mm高周波対応マニュアルプローバ
・小片から12インチウェハまで対応可。・MOSデバイスの電気的特性評価。・ス…
- 型式
- ベクターセミコン S300M-973
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[167]マニュアルプローバ cascade 8inch,1/fノイズ計測システム付
・小片から8インチウェハまで対応可。・MOSデバイスの電気的特性評価。・ステ…
- 型式
- Cascade Microtech SQ-S11861B
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[168]薄膜硬度計
・小片～30㎜角程度まで可。
- 型式
- NEC三栄 MH4000
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[197]200mmウェーハ対応原子間力顕微鏡
カットピース～Φ200㎜ウェハ対応
- 型式
- ー
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[242]レーザー直線描画装置 一式〔リンク〕
- 型式
- Heidelberg Instruments Mikrotechnik DWL2000SD
- 所在
- 工学研究科（機械・知能系） / 青葉山キャンパス
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[244]住友精密工業(株)製 Deep RIE装置 一式〔リンク〕
- 型式
- 住友精密工業 MUC21 SR
- 所在
- 工学研究科（機械・知能系） / 青葉山キャンパス
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[245]シリコン酸化皮膜形成用O3･TEOS/CVD装置〔リンク〕
- 型式
- ユーテック
- 所在
- 工学研究科（機械・知能系） / 青葉山キャンパス
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[247]薄膜形成用プラズマCVD装置〔リンク〕
- 型式
- サムコ PD-220NL
- 所在
- 工学研究科（機械・知能系） / 青葉山キャンパス
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[249]マスク露光システム装置〔リンク〕
- 型式
- SUSS MicroTec MA8 Gen3 Thu1
- 所在
- 工学研究科（機械・知能系） / 青葉山キャンパス
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[256]イオンビームミリング装置 エンドポイント分析器仕様〔リンク〕
- 型式
- 伯東 IBE-KDC75-TU-T-S
- 所在
- 工学研究科（マテリアル・開発系） / 青葉山キャンパス
