微細加工・デバイス作製・評価 一覧
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[699]中型ECR堆積装置
Arプラズマ照射下での化学気相成長法によりSi-Ge-C系薄膜形成が可能。薄膜へ…
- 型式
- 日本シード研究所 PSU-801型
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
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[700]小型ECR堆積装置
Arプラズマ照射下での化学気相成長法によりSi-C系薄膜形成が可能。薄膜へのB及…
- 型式
- 日本シード研究所 PRC-002型
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
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[759]原子層堆積装置〔リンク〕
- 型式
- Veeco Savannah S100
- 所在
- 工学研究科（機械・知能系） / 青葉山キャンパス
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[771]レーザー描画装置（DWL66+）
用途：フォトマスク作製、ウエハ直描最小加工線幅:300nm（HiRes）、80…
- 型式
- ハイデルベルグ・インストルメンツ DWL66+
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
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[773]超音波洗浄器（USK-3R）
他励発振方式、発振周波数：40KHz
- 型式
- アズワン USK-3R
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
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[835]電子線描画装置（JBX-8100FS）
加速電圧100kV5mm～8inchウエハー対応
- 型式
- 日本電子株式会社 JBX-8100FS
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
