微細加工・デバイス作製・評価 一覧
検索結果90件
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[121]中電流イオン注入装置
Φ200㎜装置、カットピース可。
- 型式
- 日新イオン機器 EXCEED2300AH
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[122]低温拡散炉、水素処理炉
Φ200㎜装置、カットピース可。
- 型式
- 東京エレクトロン BEOL炉（α-8SE）
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[123]プラズマ酸化・窒化
Φ200㎜装置、カットピース可。
- 型式
- 東京エレクトロン RLSA 2B
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[124]LPCVD装置
Φ200㎜装置、カットピース可。
- 型式
- 東京エレクトロン Formula
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[126]常圧CVD装置
400℃、SiO2成膜。
- 型式
- TEMPRESS PYROX-216E
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[127]マイクロ波Si・絶縁膜RIE装置
Φ200㎜装置、カットピース可。
- 型式
- 東京エレクトロン
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[134]電子ビーム露光装置
・基板サイズは20㎜角以上。・最小寸法は100nm程度。
- 型式
- クレステック CABL-9520CE
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[135]RTA装置B
Φ200㎜装置、カットピース可。
- 型式
- 光洋サーモシステム RLA-1208-V
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[137]高温熱処理装置(1200℃)
Φ200㎜装置、カットピース可。
- 型式
- V&Hテクノロジーズ VD-8-300S
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[142]クラスタスパッタ装置
・Al,AlSi,Ti,TiNの成膜・上記以外の金属は要相談・小片から…
- 型式
- 和泉テック IZU-2500H
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[156]パーティクル検査装置A
Φ200㎜専用
- 型式
- トプコン WM2500
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[159]低温プローバ
・～25Kまで対応・小片～2インチウェハまで対応
- 型式
- ナガセ電子機器（ナガセテクノエンジニアリング） ARK-LIPS
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
