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加工・処理 一覧
検索結果229件
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[570]スピンコーター（EB用 1H-360S）
用途：フォトリソグラフィプロセス全般（レジスト塗布、ベーキング、現像、パターン確…
- 型式
- ミカサ 1H-360S
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
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[571]スピンコーター（U4 MS-A150）
用途：フォトリソグラフィプロセス全般（レジスト塗布、ベーキング、現像、パターン確…
- 型式
- ミカサ MS-A150
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
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[572]スピンコーター（U13 MS-A150）
用途：フォトリソグラフィプロセス全般（レジスト塗布、ベーキング、現像、パターン確…
- 型式
- ミカサ MS-A150
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
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[573]スピンコーター（MS-A200）
用途：フォトリソグラフィプロセス全般（レジスト塗布、ベーキング、現像、パターン確…
- 型式
- ミカサ MS-A200
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
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[574]ホットプレート（EB用 PMC720）
用途：フォトリソグラフィプロセス全般（レジスト塗布、ベーキング、現像、パターン確…
- 型式
- PMC720
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
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[575]ホットプレート（U4 HP-1SA）
用途：フォトリソグラフィプロセス全般（レジスト塗布、ベーキング、現像、パターン確…
- 型式
- アズワン HP-1SA
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
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[576]ホットプレート（U13 HHP-230SQ）
用途：フォトリソグラフィプロセス全般（レジスト塗布、ベーキング、現像、パターン確…
- 型式
- アズワン HHP-230SQ
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
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[577]恒温槽（U1 CTA401）
用途：フォトリソグラフィプロセス全般（レジスト塗布、ベーキング、現像、パターン確…
- 型式
- ヤマト科学 CTA401
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
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[578]恒温槽（ACE-10AN）
用途：フォトリソグラフィプロセス全般（レジスト塗布、ベーキング、現像、パターン確…
- 型式
- KELK ACE-10AN
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
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[580]UVキュア（UIS-5011 MIKY-AGG01）
用途：フォトリソグラフィプロセス全般（レジスト塗布、ベーキング、現像、パターン確…
- 型式
- ウシオ電機 UIS-5011 MIKY-AGG01
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
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[581]真空定温乾燥機（ADP300）
用途：フォトリソグラフィプロセス全般（レジスト塗布、ベーキング、現像、パターン確…
- 型式
- ヤマト科学 ADP300
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
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[584]マスクアライナー（サブミクロンマスクアライメント MJB-3）
基板サイズ5mm角から最大3インチ角、マスクサイズ：2インチ角から4インチ角、…
- 型式
- SUSS MJB-3
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
