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加工・処理 一覧
検索結果232件
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[498]4探針測定装置〔リンク〕
ウェハ抵抗率などの測定
- 型式
- ナノメトリクス NanoSpec3000
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[499]拡がり抵抗測定装置〔リンク〕
不純物濃度プロファイルの測定、ウェハを小片にして端面を斜め研磨した後に測定
- 型式
- Solid State Measurements SSM150
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[500]ウェハプローバ〔リンク〕
デバイスの電気特性測定
- 型式
- 東京精密 EM-20A
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[501]金属顕微鏡〔リンク〕
パターン観察
- 型式
- ニコン L150
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[502]FE-SEM〔リンク〕
小片専用、インレンズ式の高分解能FESEM
- 型式
- 日立ハイテクノロジーズ S5000
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[503]エリプソ〔リンク〕
薄膜の厚さ、屈折率測定
- 型式
- アルバック
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[504]赤外線顕微鏡〔リンク〕
両面アライメントの確認、ウェハ接合面のボイド評価等
- 型式
- オリンパス/浜松ホトニクス
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[505]四重極質量分析装置〔リンク〕
プロセス中の残留ガスのモニタ等
- 型式
- キヤノンアネルバ M-101QA-TDM
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[507]クイックコータ〔リンク〕
SEM観察試料のPtコーティング
- 型式
- サンユー電子 SC-701MｋII
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[508]卓上型エリプソ〔リンク〕
高速サンプリング可能なエリプソ
- 型式
- フォトニックラティス SE-101
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[510]レーザ／白色光共焦点顕微鏡〔リンク〕
3次元表面形状測定、DeepRIEのエッチ深さ測定、レーザ光／白色の切替可能、共…
- 型式
- レーザーテック OPTELICS HYBRID LS-SD
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[511]直線集束ビーム超音波材料解析システム#1〔リンク〕
固体試料の漏洩弾性表面波(LSAW)速度測定
- 型式
- ー
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
