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加工・処理 一覧
検索結果229件
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[489]UVインプリント装置〔リンク〕
UV光を用いたインプリント装置、ステップ&リピート可能
- 型式
- 東芝機械 ST-50
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[490]熱インプリント装置〔リンク〕
最大650℃、最大30kN
- 型式
- オリジン電気 Reprina-T50A
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[491]エキシマ洗浄装置〔リンク〕
ウェハや石英モールド上の有機物の除去
- 型式
- デアネヒステ EXC-1201-DN
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[492]ウォーターレーザ〔リンク〕
シリコンウェハや金属薄板の加工（ガラスなどの透明材料はNG）、最小加工線幅：約7…
- 型式
- 澁谷工業 LAMICS AQL-1900
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[493]ウェハゴミ検査装置〔リンク〕
ウェハ上のパーティクル測定（数、大きさ）
- 型式
- トプコン WM-3
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[494]膜厚計〔リンク〕
光学式の膜厚測定
- 型式
- ナノメトリクス NanoSpec3000
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[495]Dektak 段差計〔リンク〕
触針式の表面形状測定
- 型式
- Dektak Dektak 8
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[496]Tenchor 段差計〔リンク〕
触針式の表面形状測定
- 型式
- Tenchor AlphaStep 500
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[497]深さ測定装置〔リンク〕
光学式の非接触深さ測定装置
- 型式
- ユニオン光学 Hisomet
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[498]4探針測定装置〔リンク〕
ウェハ抵抗率などの測定
- 型式
- ナノメトリクス NanoSpec3000
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[499]拡がり抵抗測定装置〔リンク〕
不純物濃度プロファイルの測定、ウェハを小片にして端面を斜め研磨した後に測定
- 型式
- Solid State Measurements SSM150
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[500]ウェハプローバ〔リンク〕
デバイスの電気特性測定
- 型式
- 東京精密 EM-20A
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
