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加工・処理 一覧
検索結果226件
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[722]酸化炉(8″”)
酸化膜形成、8インチ用
- 型式
- 光洋サーモシステム MT-10×8-A
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[735]エリオニクス 50kV EB描画装置
最大加速電圧：50keV
- 型式
- エリオニクス ELS-7500X
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[738]サブフェムト・インクジェット
最小線幅：約5um
- 型式
- SIJテクノロジ PR150-THU
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[739]光造形3Dプリンター
最小積層ピッチ：0.01mm、最大造形サイズ：90mmx90mmx90m…
- 型式
- シーフォース 028J plus Build size: 90x90x90mm Layer thickness (min): 0.01mm XY accuracy: 0.022mm
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[759]原子層堆積装置〔リンク〕
- 型式
- Veeco Savannah S100
- 所在
- 工学研究科（機械・知能系） / 青葉山キャンパス
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[763]ワイヤ放電加工機
XYステージ付き，自動加工，プログラム制御可能，結晶方位を固定した加工も可能（ゴ…
- 型式
- ブラザー工業（和泉テック） HS300
- 所在
- 金属材料研究所 / 片平キャンパス
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[765]自動搬送 芝浦スパッタ装置（ 冷却型）
基板ステージφ220mm、3インチターゲット×4、基板冷却型、リフトオフプロセス…
- 型式
- 芝浦メカトロニクス !-Miller CFS-4EP-LL
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[767]両面アライナ #3
コンタクト露光、片面・両面アライメント
- 型式
- SUSS MA8/BA8 Gen3
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[768]真空アニール炉
真空中での熱処理（酸素、窒素雰囲気中の処理対応未確認)
- 型式
- 真空理工 RHL-Pss98/98#
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[769]シンクロンスパッタ装置
36枚同時成膜が可能。Si、Ta、Al、W、SiO2、Ta2O5成膜可能。
- 型式
- シンクロン RAS-1100BⅡ
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[771]レーザー描画装置（DWL66+）
用途：フォトマスク作製、ウエハ直描最小加工線幅:300nm（HiRes）、80…
- 型式
- ハイデルベルグ・インストルメンツ DWL66+
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
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[773]超音波洗浄器（USK-3R）
他励発振方式、発振周波数：40KHz
- 型式
- アズワン USK-3R
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
