- /
- 設備・機器分類
- /
- 加工・処理
加工・処理 一覧
検索結果232件
-
[708]パークシステムズAFM〔リンク〕
- 型式
- パークシステムズ NX20
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
-
[720]水素アニール装置〔リンク〕
赤外線ランプ加熱、温度：最高1100℃、水素雰囲気におけるSi表面の平滑化処理な…
- 型式
- 自作
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
-
[721]EVG プラズマ活性化装置〔リンク〕
サンプルサイズ：小片～8インチ、直接接合前のプラズマ活性化処理
- 型式
- EVG EVG810
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
-
[722]酸化炉(8″)〔リンク〕
サンプルサイズ：小片～8インチドライ酸化、ウェット酸化（バブリング）酸化温度…
- 型式
- 光洋サーモシステム MT-10×8-A
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
-
[735]エリオニクス 50kV EB描画装置〔リンク〕
最大加速電圧：50keV
- 型式
- エリオニクス ELS-7500EXTK
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
-
[736]Zygo Nexview〔リンク〕
表面形状の精密測定、高さ方向の分解能・精度は0.1nm以下最大150mm角の大…
- 型式
- Zygo Nexview
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
-
[738]サブフェムト・インクジェット〔リンク〕
最小線幅：約5um金や銀などの微細なパターン形成
- 型式
- SIJテクノロジー PR-150THU
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
-
[739]光造形3Dプリンター〔リンク〕
最小積層ピッチ：0.01mm、最大造形サイズ：90mmx90mmx90m…
- 型式
- DigitalWAX 028J-PLUS
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
-
[759]原子層堆積装置〔リンク〕
- 型式
- Veeco Savannah S100
- 所在
- 工学研究科（機械・知能系） / 青葉山キャンパス
-
[763]ワイヤ放電加工機
XYステージ付き，自動加工，プログラム制御可能，結晶方位を固定した加工も可能（ゴ…
- 型式
- ブラザー工業（和泉テック） HS300
- 所在
- 金属材料研究所 / 片平キャンパス
-
[765]自動搬送 芝浦スパッタ装置 冷却型〔リンク〕
自動搬送機能付、ロードロックチャンバ付、基板冷却型、最大φ220mm、3インチタ…
- 型式
- 芝浦メカトロニクス CFS-4EP-LL
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
-
[766]測長SEM〔リンク〕
レジストパターン等の自動測長、6、8インチ自動搬送、4インチ以下は手動搬送
- 型式
- 日立ハイテク CS4800
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
