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片平キャンパス 一覧
検索結果193件
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[552_1]【ARIM】薄膜断面試料作製装置（イオンスライサ）
- 型式
- JEOL EM-09100IS
- 所在
- 金属材料研究所 / 片平キャンパス
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[552_2]【分析コア】薄膜断面試料作製装置（イオンスライサ）
- 型式
- JEOL EM-09100IS
- 所在
- 金属材料研究所 / 片平キャンパス
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[553]オスミウムコータ〔リンク〕
- 型式
- メイワフォーシス NEOC-PRO
- 所在
- 金属材料研究所 / 片平キャンパス
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[554]3Dプリンターシステム
最大ビルドサイズ（mm）:203W×152L×152H素材:ABS（ア…
- 型式
- Stratasys uPrint SE
- 所在
- 材料科学高等研究所 / 片平キャンパス
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[555]絶対PL量子収率測定装置
PL測定波長範囲:300－950nm励起波長範囲:250－850nm…
- 型式
- 浜松ホトニクス Quantaurus-QY C11347-01
- 所在
- 材料科学高等研究所 / 片平キャンパス
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[562]SEM（JSM-7401F）
2次電子像分解能加速電圧15kV:1.0nm、1kVGBモード1.5nm
- 型式
- 日本電子 JSM-7401F
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
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[563]プラズマアッシャー（PR500）
高周波出力:500W,反応ガス:O2
- 型式
- ヤマト科学 PR500
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
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[564]UVオゾンクリーナー（UV-1）
用途：試料表面のクリーニングやアッシング
- 型式
- サムコ UV-1
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
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[565]プラズマアッシャー（V-1000TS）
用途：試料表面のクリーニングやアッシング性能：プラズマモードDP/RIE、ガス…
- 型式
- ヤマト科学 V1000-TS
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
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[566]マスクアライナー（MJB-4）
基板サイズ5mm角から最大3インチ角、マスクサイズ：2インチ角から4インチ角、…
- 型式
- SUSS MJB-4
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
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[567]金属顕微鏡（MX50）
用途：フォトリソグラフィプロセス全般（レジスト塗布、ベーキング、現像、パターン確…
- 型式
- オリンパス MX50A/T
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
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[568]レーザー顕微鏡（1LM21）
用途：フォトリソグラフィプロセス全般（レジスト塗布、ベーキング、現像、パターン確…
- 型式
- レーザーテック 1LM21
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
