- /
- 設備・機器分類
設備・機器分類 一覧
検索結果683件
-
[570]スピンコーター（EB用 1H-360S）
用途：フォトリソグラフィプロセス全般（レジスト塗布、ベーキング、現像、パターン確…
- 型式
- ミカサ 1H-360S
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
-
[571]スピンコーター（U4 MS-A150）
用途：フォトリソグラフィプロセス全般（レジスト塗布、ベーキング、現像、パターン確…
- 型式
- ミカサ MS-A150
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
-
[572]スピンコーター（U13 MS-A150）
用途：フォトリソグラフィプロセス全般（レジスト塗布、ベーキング、現像、パターン確…
- 型式
- ミカサ MS-A150
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
-
[573]スピンコーター（MS-A200）
用途：フォトリソグラフィプロセス全般（レジスト塗布、ベーキング、現像、パターン確…
- 型式
- ミカサ MS-A200
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
-
[574]ホットプレート（EB用 PMC720）
用途：フォトリソグラフィプロセス全般（レジスト塗布、ベーキング、現像、パターン確…
- 型式
- PMC720
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
-
[575]ホットプレート（U4 HP-1SA）
用途：フォトリソグラフィプロセス全般（レジスト塗布、ベーキング、現像、パターン確…
- 型式
- アズワン HP-1SA
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
-
[576]ホットプレート（U13 HHP-230SQ）
用途：フォトリソグラフィプロセス全般（レジスト塗布、ベーキング、現像、パターン確…
- 型式
- アズワン HHP-230SQ
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
-
[577]恒温槽（U1 CTA401）
用途：フォトリソグラフィプロセス全般（レジスト塗布、ベーキング、現像、パターン確…
- 型式
- ヤマト科学 CTA401
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
-
[578]恒温槽（ACE-10AN）
用途：フォトリソグラフィプロセス全般（レジスト塗布、ベーキング、現像、パターン確…
- 型式
- KELK ACE-10AN
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
-
[580]UVキュア（UIS-5011 MIKY-AGG01）
用途：フォトリソグラフィプロセス全般（レジスト塗布、ベーキング、現像、パターン確…
- 型式
- ウシオ電機 UIS-5011 MIKY-AGG01
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
-
[581]真空定温乾燥機（ADP300）
用途：フォトリソグラフィプロセス全般（レジスト塗布、ベーキング、現像、パターン確…
- 型式
- ヤマト科学 ADP300
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
-
[582]AFM（nano cute）
用途：表面形状観察
- 型式
- 日立ハイテクサイエンス nano cute
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
