微細加工・デバイス作製・評価 一覧
検索結果74件
-
[309]高清浄熱処理炉（3FCR）
O2,N2,Ar,H2,H2+O2雰囲気中での熱処理が可能。300～10…
- 型式
- WAF3000
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
-
[336]MSEP-PVクラスタ
・小片～33㎜φウェハまで対応。・PE-CVD-SiO膜、SiN膜の成膜。
- 型式
- 大亜真空
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
-
[385]AFM
- 型式
- アサイラム テクノロジー
- 所在
- 工学研究科（電子情報システム・応物系） / 青葉山キャンパス
-
[402]インラインスパッタリング装置 C3010
- 型式
- ー
- 所在
- 工学研究科（電子情報システム・応物系） / 青葉山キャンパス
-
[563]プラズマアッシャー（PR500）
高周波出力:500W,反応ガス:O2
- 型式
- ヤマト科学 PR500
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
-
[564]UVオゾンクリーナー（UV-1）
用途：試料表面のクリーニングやアッシング
- 型式
- サムコ UV-1
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
-
[565]プラズマアッシャー（V-1000TS）
用途：試料表面のクリーニングやアッシング性能：プラズマモードDP/RIE、ガス…
- 型式
- ヤマト科学 V1000-TS
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
-
[566]マスクアライナー（MJB-4）
基板サイズ5mm角から最大3インチ角、マスクサイズ：2インチ角から4インチ角、…
- 型式
- SUSS MJB-4
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
-
[567]金属顕微鏡（MX50）
用途：フォトリソグラフィプロセス全般（レジスト塗布、ベーキング、現像、パターン確…
- 型式
- オリンパス MX50A/T
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
-
[569]SEM前処理用スパッタ（SC-701AT）
用途：フォトリソグラフィプロセス全般（レジスト塗布、ベーキング、現像、パターン確…
- 型式
- サンユー電子 SC-701AT
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
-
[570]スピンコーター（EB用 1H-360S）
用途：フォトリソグラフィプロセス全般（レジスト塗布、ベーキング、現像、パターン確…
- 型式
- ミカサ 1H-360S
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
-
[571]スピンコーター（U4 MS-A150）
用途：フォトリソグラフィプロセス全般（レジスト塗布、ベーキング、現像、パターン確…
- 型式
- ミカサ MS-A150
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
