微細加工・デバイス作製・評価 一覧
検索結果73件
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[147]オールメタル装置(プラズマ平坦化)
Φ33㎜ウェハ専用
- 型式
- 和泉テック
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[156]パーティクル検査装置A
Φ200㎜専用
- 型式
- トプコン WM2500
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[159]低温プローバ
・～25Kまで対応・小片～2インチウェハまで対応
- 型式
- ナガセ電子機器（ナガセテクノエンジニアリング） ARK-LIPS
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[160]ソーラシミュレータ
主な使用用途太陽電池セル、モジュール、サブモジュールのＩ－Ｖ特性評価用光源材…
- 型式
- ワコム電創 WXS-90S-L2
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[163]抵抗率測定器
・小片から8インチウェハまで対応可。・8インチウェアはマッピング可。
- 型式
- 国際電気アルファ（日立国際電気） VR-120S
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[166]300mm高周波対応マニュアルプローバ
・小片から12インチウェハまで対応可。・MOSデバイスの電気的特性評価。・ス…
- 型式
- ベクターセミコン S300M-973
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[167]マニュアルプローバ cascade 8inch,1/fノイズ計測システム付
・小片から8インチウェハまで対応可。・MOSデバイスの電気的特性評価。・ステ…
- 型式
- Cascade Microtech SQ-S11861B
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[168]薄膜硬度計
・小片～30㎜角程度まで可。
- 型式
- NEC三栄 MH4000
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[169]n&k測定装置
・小片～30㎜角程度まで可。
- 型式
- n&k Technology
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[170]水銀プローブ
２点からのプローブ方式を用いたC-V、I-V測定器ウェハサイズは１～８インチま…
- 型式
- 雄山 CVmap92A
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[197]200mmウェーハ対応原子間力顕微鏡
カットピース～Φ200㎜ウェハ対応
- 型式
- ー
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[309]高清浄熱処理炉（3FCR）
O2,N2,Ar,H2,H2+O2雰囲気中での熱処理が可能。300～10…
- 型式
- WAF3000
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
