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キャンパス 一覧
検索結果697件
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[466]アネルバ Si-RIE装置〔リンク〕
Siのドライエッチング、ガス：SF6
- 型式
- アネルバ L-507DL
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[467]Al-RIE〔リンク〕
AlやSiのドライエッチング、カセットtoカセット、ガス：Cl2、BCl3
- 型式
- 芝浦エレテック HIRRIE-100
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[468]アルバック アッシング装置〔リンク〕
2.45GHｚ、カセットtoカセット
- 型式
- アルバック UNA-2000
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[469]ブランソン アッシング装置〔リンク〕
13.56MHｚ
- 型式
- ブランソン IPC4000
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[471]アルバック 多用途RIE装置〔リンク〕
金属膜や圧電膜も対象とした多目的のドライエッチング、ガス：Cl2、BCl3、SF…
- 型式
- アルバック RIH-1515Z
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[472]KOHエッチング槽〔リンク〕
Si結晶異方性エッチング
- 型式
- ー
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[473]TMAHエッチング槽〔リンク〕
Si結晶異方性エッチング
- 型式
- ー
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[474]DeepRIE装置#4〔リンク〕
Siの深堀エッチング、静電チャック、最大8インチ
- 型式
- 住友精密 MUC-21
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[475]イオンミリング装置〔リンク〕
Arイオン、4インチ×6枚、6インチ×3枚
- 型式
- エヌ・エス／伯東 20IBE-C
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[476]アルバックICP-RIE〔リンク〕
SiO2などのドライエッチング、静電チャック、ガス：CF4、CHF3、SF6、A…
- 型式
- アルバック NE-550
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[477]ケミカルドライエッチャー（CDE)〔リンク〕
ラジカルによる低ダメージのシリコン等方性ドライエッチング、DRIE後のスキャロッ…
- 型式
- 芝浦エレテック CDE7
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[478]プラズマクリーナ〔リンク〕
O2またはArによるウェハ表面のプラズマクリーニング、レジストアッシング
- 型式
- ヤマト科学 PDC-210
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
