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設備・機器分類 一覧
検索結果736件
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[759]原子層堆積装置〔リンク〕
- 型式
- Veeco Savannah S100
- 所在
- 工学研究科（機械・知能系） / 青葉山キャンパス
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[761]核磁気共鳴装置
・磁場強度：600MHz・溶液用NMR
- 型式
- Bruker AVANCE NEO600
- 所在
- 農学研究科 / 青葉山新キャンパス
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[763]ワイヤ放電加工機
XYステージ付き，自動加工，プログラム制御可能，結晶方位を固定した加工も可能（ゴ…
- 型式
- ブラザー工業（和泉テック） HS300
- 所在
- 金属材料研究所 / 片平キャンパス
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[764]蛍光分光光度計
光源：キセノン（150W）感度：S/N800以上（RMS）スリット：2.5…
- 型式
- 日立ハイテクサイエンス F-2700形
- 所在
- 材料科学高等研究所 / 片平キャンパス
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[765]自動搬送 芝浦スパッタ装置（ 冷却型）
基板ステージφ220mm、3インチターゲット×4、基板冷却型、リフトオフプロセス…
- 型式
- 芝浦メカトロニクス !-Miller CFS-4EP-LL
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[766]測長SEM
微細構造の高精度自動測長6、8インチは自動搬送、4インチ以下は手動搬送計測再…
- 型式
- 日立ハイテク CS4800
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[767]両面アライナ #3
コンタクト露光、片面・両面アライメント
- 型式
- SUSS MA8/BA8 Gen3
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[768]真空アニール炉
真空中での熱処理（酸素、窒素雰囲気中の処理対応未確認)
- 型式
- 真空理工 RHL-Pss98/98#
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[769]シンクロンスパッタ装置
36枚同時成膜が可能。Si、Ta、Al、W、SiO2、Ta2O5成膜可能。
- 型式
- シンクロン RAS-1100BⅡ
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[770]半導体パラメータアナライザ
半導体デバイスの特性評価
- 型式
- Key Sight B1500A SMU B1511B x4 GNDU B1500-66605
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[771]レーザー描画装置（DWL66+）
用途：フォトマスク作製、ウエハ直描最小加工線幅:300nm（HiRes）、80…
- 型式
- ハイデルベルグ・インストルメンツ DWL66+
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
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[772]電界放出形走査電子顕微鏡（SU8600）
冷陰極電界放出形電子銃、半導体型反射電子検出器(PD-BSED)搭載
- 型式
- 日立 SU8600
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
