- /
- 設備・機器分類
設備・機器分類 一覧
検索結果679件
-
[633]アネルバマルチスパッタ〔リンク〕
1バッチ最大6枚搭載可能（回転機構付）、6インチターゲット×3（DC×2、RF×…
- 型式
- アネルバ SPC-350
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
-
[635]マスクレスアライナ〔リンク〕
波長：405nm、最小描画線幅：1.0µm、高速直接描画、裏面アライメント可能、…
- 型式
- Heidelberg Instruments MLA150tt
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
-
[637]熱拡散測定装置
温度範囲：室温～500°C、熱拡散率：0.01mm2/s～2000mm2/s
- 型式
- Netzsch LFA467
- 所在
- 金属材料研究所 / 片平キャンパス
-
[638]ナノインデンター
荷重範囲：100nN～10N(約10μg～1kg)測定モード：準静的モードおよ…
- 型式
- 東陽テクニカ G200
- 所在
- 金属材料研究所 / 片平キャンパス
-
[639]集束イオンビーム加工観察装置
最大電流密度：50A/cm加速電圧：2-40kV日立HF-2000形…
- 型式
- 日立ハイテク FB2100
- 所在
- 金属材料研究所 / 片平キャンパス
-
[641]超高分解能電界放出形インレンズ走査電子顕微鏡
二次電子像分解能（高加速電圧30kV）0.4nm（低加速電圧1kV…
- 型式
- 日立 S-5500形
- 所在
- 理学研究科 / 青葉山キャンパス
-
[644]ハイスピードカメラ
1024×1024ピクセルの画像にて最大12500フレーム/秒の画像が取得可能…
- 型式
- Photron Fastcam SA-X2 (1024pix×1024pix 12500fps)
- 所在
- 流体科学研究所 / 片平キャンパス
-
[647]クリーンルーム
・クリールーム環境の利用。（空調、ガス、純水、等）・装置の設置可（要相談）
- 型式
- ー
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
-
[650]感圧塗料計測システム
感圧塗料を用いた表面圧力分布計測システム。適応可能風速は用いる塗料により異なるが…
- 型式
- ー
- 所在
- 流体科学研究所 / 片平キャンパス
-
[651]ステレオPIVシステム
毎秒10フレームの二次元またはステレオ（面内の3成分）計測が可能なシステムになり…
- 型式
- ソフトウェア：Dantec Dynamics, Dynamic studio, カメラ： FlowsenseEO4M(2048pix×2048pix, PIV最大10Hz)
- 所在
- 流体科学研究所 / 片平キャンパス
-
[652]時系列PIVシステム
・最大6kHzでの時系列PIVデータを取得可能。・ハイスピードカメラを追加する…
- 型式
- ソフトウェア：Dantec Dynamics, Dynamic studio, カメラ： Photron SA-X2(1024pix×1024pix 12,000fps)
- 所在
- 流体科学研究所 / 片平キャンパス
-
[654]ハイスピードカメラ
画素数（ピクセル）1280×800撮影速度(コマ/秒)フルフレーム…
- 型式
- Vision Research Phantom ｖ2011
- 所在
- 流体科学研究所 / 片平キャンパス
