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設備・機器分類 一覧
検索結果438件
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[103-2]高速イオン・中性子ビーム照射装置(サポートなし)
ビーム核種：p,d,He,C,N,O,Ne,Si,Ar,Fe,…
- 型式
- 最高ビームエネルギー：陽子・中性子70MeV及び重イオンビーム
- 所在
- サイクロトロン・ラジオアイソトープセンター / 青葉山キャンパス
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[104]粒子加速装置(医用小型サイクロトロン)
・放射性薬剤の合成に用いられる小型サイクロトロン・加速可能なイオンは負の水素イ…
- 型式
- 住友重機械工業 CYPRIS-HM12
- 所在
- サイクロトロン・ラジオアイソトープセンター / 青葉山キャンパス
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[105]弾道飛行装置
最高射出速度6km/s､射出形式(ガス銃､一段式火薬銃､二段式軽ガス銃)
- 型式
- Physics Applications Inc 射出速度 100m/s ～6km/s､射出形式(1段式ガス銃､一段式火薬銃､二段式軽ガス銃)
- 所在
- 流体科学研究所 / 片平キャンパス
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[107]小動物用PET・CT装置
【小動物用PET】・検出器に3次元放射線検出器（DOI：Depth-of-In…
- 型式
- 島津製作所 ClairvivoPET・CT
- 所在
- サイクロトロン・ラジオアイソトープセンター / 青葉山キャンパス
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[109]電子線描画装置（JBX-9300SA）
加速電圧100kV,5mm~6inchウエハ対応
- 型式
- 日本電子 JBX-9300SA
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
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[111]FIB／SEM（NVision40）
トリプルビーム方式
- 型式
- Carl Zeiss Microscopy N-Vision40
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
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[112]高電圧パルス選択性粉砕装置
パルス電圧：90-200kVパルス周波数：1-5Hz電極ギャップ：10-40…
- 型式
- SELFRAG AG SELFRAG Lab S2.0
- 所在
- 多元物質科学研究所 / 片平キャンパス
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[113]ウェットベンチ(無機用・高清浄)
シリコングレード専用
- 型式
- 日立プラント HNCD-4-SL #1
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[114]ウェットベンチ(無機用・汎用)
・シリコン（Si）のみ使用可。・無機薬品の使用可（硫酸、硝酸、フッ酸、塩酸、過…
- 型式
- 日立プラント HNCD-4-SL #2
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[115]ウェットベンチ(無機用・メタル専用)
・材料問わず使用可（重金属は要相談）・無機薬品の使用可（硫酸、硝酸、フッ酸、塩…
- 型式
- 日立プラント HNCD-4-SL #3
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[116]ウェットベンチ(有機用・リソグラフィ)
・有機薬品を用いた基板洗浄・超純水の使用可。・小片から8インチウェハまで対応…
- 型式
- 日立プラント HNCD
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[117]特殊型Siウェハ洗浄乾燥装置
Φ200㎜専用
- 型式
- エス・イー・エス 200SP
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
