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36_マイクロシステム融合研究開発センター 一覧
検索結果135件
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[363]Vapor HFエッチング装置〔リンク〕
気相フッ酸による主にSiO2犠牲層エッチング
- 型式
- Primaxx uEtch Module TO-α
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[364]芝浦スパッタ装置（冷却形）〔リンク〕
基板ステージφ200mm、3インチターゲット×3、基板冷却型
- 型式
- 芝浦メカトロニクス CFS-4ES-C.T.
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[420]エッチングチャンバー〔リンク〕
酸洗浄、ウェットエッチング（Si,SiO2など）
- 型式
- アズワン PSH1200
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[421]リン酸槽〔リンク〕
SiNウェットエッチング
- 型式
- ー
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[422]イナートオーブン（シンター炉）〔リンク〕
N2雰囲気中での熱処理、Alシンタリングなど
- 型式
- ヤマト科学 DN63H
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[423]真空オーブン〔リンク〕
真空中での熱処理
- 型式
- ヤマト科学 DP-31
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[424]スピン乾燥機〔リンク〕
平置き式でウェハやフォトマスクの乾燥
- 型式
- 東邦化成 ZAA-4
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[425]有機ドラフトチャンバー〔リンク〕
有機洗浄、レジスト剥離
- 型式
- ー
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[426]4″スピン乾燥機〔リンク〕
カセット式で1度に25枚まで処理可能
- 型式
- SEMITOOL PSC101
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[427]6″スピン乾燥機〔リンク〕
カセット式で1度に25枚まで処理可能
- 型式
- SEMITOOL PSC101
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[429]スピンコータ〔リンク〕
レジスト等のスピンコーティング
- 型式
- ミカサ 1H-DXII
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
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[430]クリーンオーブン〔リンク〕
ウェハのベーク
- 型式
- ヤマト科学 DE62
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
