- /
- 機関・部局
- /
- 19_未来科学技術共同研究センター
19_未来科学技術共同研究センター 一覧
検索結果50件
-
[061]レオメータ
下記のトライボロジー融合研究拠点のページを参照してください。http://tr…
- 型式
- Brookfield RS-CPSコーンプレート型
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 片平キャンパス
-
[064]接触角・表面張力計
下記のトライボロジー融合研究拠点のページを参照してください。http://tr…
- 型式
- 協和界面科学 DM-301
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 片平キャンパス
-
[065]摩擦試験機
特徴：本装置は、室温から150℃までの温度範囲において摩擦摩耗試験を行うことが可…
- 型式
- Bruker AXS UNMT-1MT-WS
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 片平キャンパス
-
[113]ウェットベンチ(無機用・高清浄)
シリコングレード専用
- 型式
- 日立プラント HNCD-4-SL #1
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
-
[114]ウェットベンチ(無機用・汎用)
・シリコン（Si）のみ使用可。・無機薬品の使用可（硫酸、硝酸、フッ酸、塩酸、過…
- 型式
- 日立プラント HNCD-4-SL #2
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
-
[115]ウェットベンチ(無機用・メタル専用)
・材料問わず使用可（重金属は要相談）・無機薬品の使用可（硫酸、硝酸、フッ酸、塩…
- 型式
- 日立プラント HNCD-4-SL #3
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
-
[116]ウェットベンチ(有機用・リソグラフィ)
・有機薬品を用いた基板洗浄・超純水の使用可。・小片から8インチウェハまで対応…
- 型式
- 日立プラント HNCD
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
-
[117]特殊型Siウェハ洗浄乾燥装置
Φ200㎜専用
- 型式
- エス・イー・エス 200SP
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
-
[118]KrFステッパ
Φ200㎜専用
- 型式
- キヤノン FPA3000-EX3
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
-
[119]コータデベロッパ
Φ200㎜専用
- 型式
- 東京エレクトロン Mark8
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
-
[120]アライナー
2.5インチレチクル
- 型式
- ユニオン光学 EMA-400
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
-
[121]中電流イオン注入装置
Φ200㎜装置、カットピース可。
- 型式
- 日新イオン機器 EXCEED2300AH
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
