[682]住友 TEOS PECVD#2

ID
682
設備・機器分類
ー
利用区分
学内:〇, 学外:〇
メーカー
SPPテクノロジーズ
型式
APX-Cetus
仕様・特徴
TEOS SiO2、SiN、基板サイズ 小片~8インチ、最高温度 350℃、低応力SiN成膜
用途・使用目的
ー
キャンパス
その他
部局
マイクロシステム融合研究開発センター
管理部署
試作コインランドリ
設備担当者
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予約サイトのURL
https://share.cfc.tohoku.ac.jp/share/equipment/detail/1/604?utm_source=portal&utm_medium=link
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備考
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