- /
- 設備・機器分類
設備・機器分類 一覧
検索結果439件
-
[126]常圧CVD装置
400℃、SiO2成膜。
- 型式
- TEMPRESS PYROX-216E
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
-
[127]マイクロ波Si・絶縁膜RIE装置
Φ200㎜装置、カットピース可。
- 型式
- 東京エレクトロン
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
-
[130]透過型電子顕微鏡(FE-TEM)
加速電圧：200kV分解能：粒子像：0.19nm,格子像：0.1nm…
- 型式
- 日本電子 JEM-2100F
- 所在
- 工学研究科（本部） / 青葉山キャンパス
-
[131]走査型電子顕微鏡・結晶方位解析(FE-SEM/EBSD)
加速電圧：1-30kV分解能：1.2nm(@30kV),3.0nm(@…
- 型式
- 日本電子 JSM-7100F
- 所在
- 工学研究科（本部） / 青葉山キャンパス
-
[132]特殊型室温枚葉洗浄装置A
Φ200㎜専用
- 型式
- リアライズ ・アドバンストテクノロジ 金属薄膜用洗浄装置
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
-
[134]電子ビーム露光装置
・基板サイズは20㎜角以上。・最小寸法は100nm程度。
- 型式
- クレステック CABL-9520CE
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
-
[135]RTA装置B
Φ200㎜装置、カットピース可。
- 型式
- 光洋サーモシステム RLA-1208-V
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
-
[137]高温熱処理装置(1200℃)
Φ200㎜装置、カットピース可。
- 型式
- V&Hテクノロジーズ VD-8-300S
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
-
[142]クラスタスパッタ装置
・Al,AlSi,Ti,TiNの成膜・上記以外の金属は要相談・小片から…
- 型式
- 和泉テック IZU-2500H
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
-
[147]オールメタル装置(プラズマ平坦化)
Φ33㎜ウェハ専用
- 型式
- 和泉テック
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
-
[156]パーティクル検査装置A
Φ200㎜専用
- 型式
- トプコン WM2500
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
-
[159]低温プローバ
・～25Kまで対応・小片～2インチウェハまで対応
- 型式
- ナガセ電子機器（ナガセテクノエンジニアリング） ARK-LIPS
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
