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設備・機器分類 一覧
検索結果426件
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[559]dd-PCRシステムQX200（T100サーマルサイクラー）
サーマルサイクラー
- 型式
- Bio-Rad Laboratories
- 所在
- 病院 / 星陵キャンパス
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[560]dd-PCRシステムQX200（Droplet Reader）
検出チャネル：FAM、HEXサンプル処理数：96サンプル/run
- 型式
- Bio-Rad Laboratories QX200 1864003TA
- 所在
- 病院 / 星陵キャンパス
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[562]SEM（JSM-7401F）
2次電子像分解能加速電圧15kV:1.0nm、1kVGBモード1.5nm
- 型式
- 日本電子 JSM-7401F
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
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[563]プラズマアッシャー（PR500）
高周波出力:500W,反応ガス:O2
- 型式
- ヤマト科学 PR500
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
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[564]UVオゾンクリーナー（UV-1）
用途：試料表面のクリーニングやアッシング
- 型式
- サムコ UV-1
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
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[565]プラズマアッシャー（V-1000TS）
用途：試料表面のクリーニングやアッシング性能：プラズマモードDP/RIE、ガス…
- 型式
- ヤマト科学 V1000-TS
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
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[566]マスクアライナー（MJB-4）
基板サイズ5mm角から最大3インチ角、マスクサイズ：2インチ角から4インチ角、…
- 型式
- SUSS MJB-4
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
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[567]金属顕微鏡（MX50）
用途：フォトリソグラフィプロセス全般（レジスト塗布、ベーキング、現像、パターン確…
- 型式
- オリンパス MX50A/T
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
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[568]レーザー顕微鏡（1LM21）
用途：フォトリソグラフィプロセス全般（レジスト塗布、ベーキング、現像、パターン確…
- 型式
- レーザーテック 1LM21
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
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[569]SEM前処理用スパッタ（SC-701AT）
用途：フォトリソグラフィプロセス全般（レジスト塗布、ベーキング、現像、パターン確…
- 型式
- サンユー電子 SC-701AT
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
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[570]スピンコーター（EB用 1H-360S）
用途：フォトリソグラフィプロセス全般（レジスト塗布、ベーキング、現像、パターン確…
- 型式
- ミカサ 1H-360S
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
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[571]スピンコーター（U4 MS-A150）
用途：フォトリソグラフィプロセス全般（レジスト塗布、ベーキング、現像、パターン確…
- 型式
- ミカサ MS-A150
- 所在
- 電気通信研究所 / 片平キャンパス
