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設備・機器分類 一覧
検索結果683件
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[115]ウェットベンチ(無機用・メタル専用)
・材料問わず使用可（重金属は要相談）・無機薬品の使用可（硫酸、硝酸、フッ酸、塩…
- 型式
- 日立プラント HNCD-4-SL #3
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[116]ウェットベンチ(有機用・リソグラフィ)
・有機薬品を用いた基板洗浄・超純水の使用可。・小片から8インチウェハまで対応…
- 型式
- 日立プラント HNCD
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[118]KrFステッパ
Φ200㎜専用
- 型式
- キヤノン FPA3000-EX3
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[119]コータデベロッパ
Φ200㎜専用
- 型式
- 東京エレクトロン Mark8
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[120]アライナー
2.5インチレチクル
- 型式
- ユニオン光学 EMA-400
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[121]中電流イオン注入装置
Φ200㎜装置、カットピース可。
- 型式
- 日新イオン機器 EXCEED2300AH
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[122]低温拡散炉、水素処理炉
Φ200㎜装置、カットピース可。
- 型式
- 東京エレクトロン BEOL炉（α-8SE）
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[123]プラズマ酸化・窒化
Φ200㎜装置、カットピース可。
- 型式
- 東京エレクトロン RLSA 2B
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[124]LPCVD装置
Φ200㎜装置、カットピース可。
- 型式
- 東京エレクトロン Formula
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[125]マイクロ波プラズマCVD装置(SiN)
Φ200㎜装置、カットピース可。
- 型式
- 東京エレクトロン LT-PECVD
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[126]常圧CVD装置
400℃、SiO2成膜。
- 型式
- TEMPRESS PYROX-216E
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
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[127]マイクロ波Si・絶縁膜RIE装置
Φ200㎜装置、カットピース可。
- 型式
- 東京エレクトロン
- 所在
- 未来科学技術共同研究センター / 青葉山キャンパス
