- ID
- 1108
- 設備・機器分類
- 加工・処理 ｜ 微細加工・デバイス作製・評価
- 利用区分
- ー
- メーカー
- GenISys Inc.
- 型式
- ー
- 仕様・特徴
- 電子線描画装置、レーザー描画装置用データ補正
・近接効果補正
・グレイスケール露光補正
・近接効果補正
・グレースケール露光
・電子線描画補正
・EB描画補正
・マスクデータ補正 - 用途・使用目的
- ー
- キャンパス
- その他
- 部局
- マイクロシステム融合研究開発センター
- 管理部署
- ナノテク融合技術支援センター
- 設備担当者
- 利用相談はこちらより必要事項をご記入の上、お問い合わせください。
- 予約サイトのURL
- https://www.cints.tohoku.ac.jp/
- 【閲覧用】設備予約カレンダー
- カレンダーは公開されていません。
- 備考
- 本設備・装置の利用申込は、「ナノテク融合技術支援センター(CINTS)」からお願いいたします。
