[073]多機能走査型X線光電子分光分析装置

ID
073
設備・機器分類
分析 | 分光分析
利用区分
学内:〇, 学外:〇
メーカー
アルバック・ファイ
型式
PHI-5000VersaProbeⅡ-TSS
仕様・特徴
・ 走査型X線源によりビーム径は、10μm~200μm の間で設定可能。
・ Scanning Xray Image のその場観察により、より正確、迅速な分析位置の決定が可能。
・ 低エネルギー電子とイオン同時照射により、絶縁物試料の表面電位を均一にする帯電中和方法を採用。
・ 測定視野内や試料台上の自動多点分析が可能。
・ 最小ビーム径: 10μm
・ 検出器: 16チャンネル
・ X線スキャン範囲: 1.4mm×1.4mm
・ イオン銃加速電圧: 0~5kV
・ 最高エネルギー分解能: 0.5eV以下
用途・使用目的
・金属、酸化物、窒化物等の結合状態分析
・炭素材料(グラフェン、DLC、CNT等)や触媒材料の表面官能基・結合状態分析
・有機材料、ポリマー等の組成、結合状態分析
・リチウムイオン電池用正極・負極材料の大気非暴露による結合状態分析
・アルゴンスパッタリング、角度分解測定による深さ方向分析
キャンパス
片平キャンパス
部局
産学連携先端材料研究開発センター
管理部署
設備担当者
利用相談はこちらより必要事項をご記入の上、お問い合わせください。
予約サイトのURL
https://share.cfc.tohoku.ac.jp/share/equipment/detail/1/44
備考
チャットボット ハギボー