- /
- キャンパス
キャンパス 一覧
検索結果697件
-
[426]4″スピン乾燥機〔リンク〕
カセット式で1度に25枚まで処理可能
- 型式
- SEMITOOL PSC101
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
-
[427]6″スピン乾燥機〔リンク〕
カセット式で1度に25枚まで処理可能
- 型式
- SEMITOOL PSC101
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
-
[429]スピンコータ〔リンク〕
レジスト等のスピンコーティング
- 型式
- ミカサ 1H-DXII
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
-
[430]クリーンオーブン〔リンク〕
ウェハのベーク
- 型式
- ヤマト科学 DE62
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
-
[431]ポリイミドキュア炉〔リンク〕
N2雰囲気中でのポリイミドのキュア
- 型式
- ヤマト科学 DN43H
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
-
[434]現像ドラフト〔リンク〕
レジスト現像用のドラフトチャンバー
- 型式
- ー
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
-
[435]UVキュア装置〔リンク〕
レジストのキュア、カセットtoカセット
- 型式
- ウシオ電機 UMA-802
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
-
[436]スピンコータ〔リンク〕
レジスト等のスピンコーティング
- 型式
- アクテス ASC-4000
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
-
[437]スプレー現像装置〔リンク〕
現像液とリンス（水）をノズルから噴霧
- 型式
- アクテス ADE-3000S
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
-
[438]レーザ描画装置〔リンク〕
波長：405nm、最小描画線幅：0.7µm、マスク作製（Cr、エマルジョン）、直…
- 型式
- ハイデルベルグ・インストルメンツ DWL2000CE
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
-
[439]球面露光装置〔リンク〕
球面体（直径1.0、3.3mm）へのマスクレス露光、最小パターン：1.5µmハー…
- 型式
- 東北電子産業
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
-
[440]酸化炉（半導体用）〔リンク〕
酸化膜形成、半導体ウェハ用
- 型式
- 東京エレクトロン XL-7
- 所在
- マイクロシステム融合研究開発センター / その他
