[359]酸素加圧RTA付高温スパッタ装置

ID
359
設備・機器分類
ー
利用区分
学内:〇, 学外:〇
メーカー
ユーテック
型式
21-0604
仕様・特徴
金属用(DC)スパッタチャンバ、酸化物用(RF)スパッタチャンバ、酸素加圧アニールチャンバの3つのチャンバで構成。最高基板温度は700℃。主にPZT下地成膜、PZT成膜用。
用途・使用目的
ー
キャンパス
その他
部局
マイクロシステム融合研究開発センター
管理部署
試作コインランドリ
設備担当者
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予約サイトのURL
https://share.cfc.tohoku.ac.jp/share/equipment/detail/1/456?utm_source=portal&utm_medium=link
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備考
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