- ID
- 769
- 設備・機器分類
- 加工・処理 ｜ 微細加工・デバイス作製・評価
- 利用区分
- ー
- メーカー
- シンクロン
- 型式
- RAS-1100BⅡ
- 仕様・特徴
- 4インチ基板対応、36枚同時成膜可能。Si、Ta、Al、W、SiO2、SiN、Ta2O5など成膜可能。
- 用途・使用目的
- ー
- キャンパス
- その他
- 部局
- マイクロシステム融合研究開発センター
- 管理部署
- ナノテク融合技術支援センター
- 設備担当者
- 利用相談はこちらより必要事項をご記入の上、お問い合わせください。
- 予約サイトのURL
- https://www.cints.tohoku.ac.jp/
- 【閲覧用】設備予約カレンダー
- カレンダーは公開されていません。
- 備考
- 本学に別途設置されている「ナノテク融合技術支援センター」での手続きに沿って使用申込みをしていただくことになりますので、上記受付窓口リンクページをご確認ください。
