[359]酸素加圧RTA付高温スパッタ装置〔リンク〕

ID
359
設備・機器分類
加工・処理 | 微細加工・デバイス作製・評価
利用区分
メーカー
ユーテック
型式
21-0604
仕様・特徴
金属用(DC)スパッタチャンバ、酸化物用(RF)スパッタチャンバ、酸素加圧アニールチャンバの3つの チャンバで構成。最高基板温度は700℃。主にPZT下地成膜、PZT成膜用。
用途・使用目的
キャンパス
その他
部局
マイクロシステム融合研究開発センター
管理部署
ナノテク融合技術支援センター
設備担当者
利用相談はこちらより必要事項をご記入の上、お問い合わせください。
予約サイトのURL
https://www.cints.tohoku.ac.jp/
備考
本学に別途設置されている「ナノテク融合技術支援センター」での手続きに沿って使用申込みをしていただくことになりますので、上記受付窓口リンクページをご確認ください。
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