[309]高清浄熱処理炉(3FCR)

ID
309
設備・機器分類
加工・処理 | 微細加工・デバイス作製・評価
利用区分
学内:〇, 学外:〇
メーカー
型式
WAF3000
仕様・特徴
O2, N2, Ar, H2, H2+O2雰囲気中での熱処理が可能。300~1050℃。3体。
用途・使用目的
キャンパス
片平キャンパス
部局
電気通信研究所
管理部署
設備担当者
利用相談はこちらより必要事項をご記入の上、お問い合わせください。
予約サイトのURL
https://share.cfc.tohoku.ac.jp/share/equipment/detail/1/156
備考
<施設等使用料>
【クリーンルーム入室料】 国立大学法人東北大学電気通信研究所共同研究施設装置利用内規を適用

<消耗品費等>国立大学法人東北大学電気通信研究所共同研究施設装置利用内規を適用

クロスコンタミ防止のため、試料が限定される場合があります。
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