- ID
- 835
- 設備・機器分類
- 加工・処理 ｜ 微細加工・デバイス作製・評価
- 利用区分
- 学内：〇, 学外：〇
- メーカー
- 日本電子株式会社
- 型式
- JBX-8100FS
- 仕様・特徴
- 加速電圧100kV
5mm～8inchウエハー対応 - 用途・使用目的
- ー
- キャンパス
- 片平キャンパス
- 部局
- 電気通信研究所
- 管理部署
- ー
- 設備担当者
- 利用相談はこちらより必要事項をご記入の上、お問い合わせください。
- 予約サイトのURL
- https://share.cfc.tohoku.ac.jp/share/equipment/detail/1/762?utm_source=portal&utm_medium=link
- 学外利用料金
※更新の都合で実際の料金とは異なる場合がございます。 - 本人利用（R8.7.1から）： 36,472円 / 時間
委託利用（R8.7.1から）： 40,584円 / 時間
クリーンルーム入室料（R8.7.1から）： 980円 / 時間
技術指導料（R8.7.1から）： 4,111円 / 時間
H-SiOx(HSQ) 2%（0.1cc）（R8.7.1から）： 191円 / 0.1cc
現像液 ZED-N60（50cc）（R8.7.1から）： 433円 / 50㏄
レジスト ZEP520A（0.1cc）（R8.7.1から）： 343円 / 0.1cc
レジスト ZEP520A-7（0.1cc）（R8.7.1から）： 431円 / 0.1cc
レジスト ZEP530A-6（0.1cc）（R8.7.1から）： 646円 / 0.1cc
レジスト TGMR-EN103PE2.5cP（0.1cc）（R8.7.1から）： 288円 / 0.1cc
H-SiOx(HSQ) 5%（0.1cc）（R8.7.1から）： 479円 / 0.1cc
レジスト PMGI（0.1cc）（R8.7.1から）： 31円 / 0.1cc
密着性向上剤 OAP（0.1cc）（R8.7.1から）： 1円 / 0.1㏄
チャージアップ防止剤 エスペイサー 300Z（0.1g）（R8.7.1から）： 328円 / 0.1g
現像液 ZED-N50（50cc）（R8.7.1から）： 301円 / 50㏄
現像液・リンス ZMD-B（50cc）（R8.7.1から）： 273円 / 50㏄
現像液 NMD-3（50cc）（R8.7.1から）： 138円 / 50㏄
現像液 NMD-W（50cc）（R8.7.1から）： 138円 / 50㏄
レジスト剥離液 1165（50cc）（R8.7.1から）： 538円 / 50㏄
防塵衣セット(衣・帽・靴)クリーニング： 1,293円 / 式 - 学内利用料金
- 上記予約サイトのURLより設備統合管理システムにログインの上、ご確認ください。
- 【閲覧用】設備予約カレンダー
- カレンダーは公開されていません。
- 備考
- ー
