- ID
- 771
- 設備・機器分類
- 加工・処理 ｜ 微細加工・デバイス作製・評価
- 利用区分
- 学内：〇, 学外：〇
- メーカー
- ハイデルベルグ・インストルメンツ
- 型式
- DWL66+
- 仕様・特徴
- 用途：フォトマスク作製、ウエハ直描
最小加工線幅:300nm（HiRes）、800nm（WriteModeⅡ）
サンプルサイズ：3mm□～9インチ□ - 用途・使用目的
- ー
- キャンパス
- 片平キャンパス
- 部局
- 電気通信研究所
- 管理部署
- ー
- 設備担当者
- 利用相談はこちらより必要事項をご記入の上、お問い合わせください。
- 予約サイトのURL
- https://share.cfc.tohoku.ac.jp/share/equipment/detail/1/372
- 学外利用料金
※更新の都合で実際の料金とは異なる場合がございます。 - 本人利用： 9,903円 / 時間
委託利用： 13,853円 / 時間
技術指導料： 3,950円 / 時間
クリーンルーム入室料： 1,445円 / 時間
洗浄液 エタノール： 341円 / 100cc
現像液 NMD-3： 138円 / 50cc
現像液 NMD-W： 138円 / 50cc
レジスト AZ P1350： 136円 / 1cc
レジスト剥離液 1165： 343円 / 50cc
レジスト剥離液 AZ 100REMOVER： 1,062円 / 100cc
Crエッチング液： 409円 / 50cc
防塵衣セット(衣・帽・靴)クリーニング： 1,293円 / 1式
レジストTDMR-AR80 6cP： 14円 / 0.1cc - 学内利用料金
- 上記予約サイトのURLより設備統合管理システムにログインの上、ご確認ください。
- 備考
- <施設等使用料>
国立大学法人東北大学電気通信研究所共同研究施設装置利用内規を適用
＜消耗品等費＞
国立大学法人東北大学電気通信研究所共同研究施設装置等利用内規を適用
