- ID
- 073
- 設備・機器分類
- 分析 ｜ 分光分析
- 利用区分
- 学内：〇, 学外：〇
- メーカー
- アルバック・ファイ
- 型式
- PHI-5000VersaProbeⅡ-TSS
- 仕様・特徴
- ・ 走査型X線源によりビーム径は、10μm～200μm の間で設定可能。
・ Scanning Xray Image のその場観察により、より正確、迅速な分析位置の決定が可能。
・ 低エネルギー電子とイオン同時照射により、絶縁物試料の表面電位を均一にする帯電中和方法を採用。
・ 測定視野内や試料台上の自動多点分析が可能。
・ 最小ビーム径： 10μm
・ 検出器： 16チャンネル
・ X線スキャン範囲： 1.4mm×1.4mm
・ イオン銃加速電圧： 0～5kV
・ 最高エネルギー分解能： 0.5eV以下 - 用途・使用目的
- ・金属、酸化物、窒化物等の結合状態分析
・炭素材料（グラフェン、DLC、CNT等）や触媒材料の表面官能基・結合状態分析
・有機材料、ポリマー等の組成、結合状態分析
・リチウムイオン電池用正極・負極材料の大気非暴露による結合状態分析
・アルゴンスパッタリング、角度分解測定による深さ方向分析 - キャンパス
- 片平キャンパス
- 部局
- 産学連携先端材料研究開発センター
- 管理部署
- ー
- 設備担当者
- 利用相談はこちらより必要事項をご記入の上、お問い合わせください。
- 予約サイトのURL
- https://share.cfc.tohoku.ac.jp/share/equipment/detail/1/44
- 学外利用料金
※更新の都合で実際の料金とは異なる場合がございます。 - 本人利用： 10,399円 / 時間
- 学内利用料金
- 上記予約サイトのURLより設備統合管理システムにログインの上、ご確認ください。
- 備考
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