- ID
- 116
- 設備・機器分類
- 加工・処理 ｜ 微細加工・デバイス作製・評価
- 利用区分
- 学内：〇, 学外：〇
- メーカー
- 日立プラント
- 型式
- HNCD
- 仕様・特徴
- ・有機薬品を用いた基板洗浄
・超純水の使用可。
・小片から8インチウェハまで対応可。 - 用途・使用目的
- ー
- キャンパス
- 青葉山キャンパス
- 部局
- 未来科学技術共同研究センター
- 管理部署
- ー
- 設備担当者
- 利用相談はこちらより必要事項をご記入の上、お問い合わせください。
- 予約サイトのURL
- https://share.cfc.tohoku.ac.jp/share/equipment/detail/1/66
- 学外利用料金
※更新の都合で実際の料金とは異なる場合がございます。 - 本人利用： 11,385円 / 時間
委託利用： 34,485円 / 時間
技術指導料：オペトレ、利用補佐、トラブル対応： 11,550円 / 時間 - 学内利用料金
- 上記予約サイトのURLより設備統合管理システムにログインの上、ご確認ください。
- 備考
- 【設備利用】
利用に際し、事前にご相談ください。
【委託利用】
委託をご希望される方は相談窓口までご相談ください（詳細内容や希望納期等についてお伺いします）。
