[116]ウェットベンチ(有機用・リソグラフィ)

ID
116
設備・機器分類
加工・処理 | 微細加工・デバイス作製・評価
利用区分
学内:〇, 学外:〇
メーカー
日立プラント
型式
HNCD
仕様・特徴
・有機薬品を用いた基板洗浄
・超純水の使用可。
・小片から8インチウェハまで対応可。
用途・使用目的
キャンパス
青葉山キャンパス
部局
未来科学技術共同研究センター
管理部署
設備担当者
利用相談はこちらより必要事項をご記入の上、お問い合わせください。
予約サイトのURL
https://share.cfc.tohoku.ac.jp/share/equipment/detail/1/66
備考
【設備利用】
利用に際し、事前にご相談ください。
【委託利用】
委託をご希望される方は相談窓口までご相談ください(詳細内容や希望納期等についてお伺いします)。
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