[768]真空アニール炉〔リンク〕

ID
768
設備・機器分類
加工・処理 | 微細加工・デバイス作製・評価
利用区分
メーカー
真空理工
型式
RHL-Pss98/98#
仕様・特徴
真空中での熱処理、赤外線ランプ加熱、最高1000℃、最大4インチ基板対応
用途・使用目的
キャンパス
その他
部局
マイクロシステム融合研究開発センター
管理部署
ナノテク融合技術支援センター
設備担当者
利用相談はこちらより必要事項をご記入の上、お問い合わせください。
予約サイトのURL
https://www.cints.tohoku.ac.jp/
【閲覧用】設備予約カレンダー
カレンダーは公開されていません。
備考
本学に別途設置されている「ナノテク融合技術支援センター」での手続きに沿って使用申込みをしていただくことになりますので、上記受付窓口リンクページをご確認ください。
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